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事業活動を通じた
社会への価値提供

生活の質・幸福への貢献快適な社会を支える素材の提供

スマート社会における
デジタル化の発展

EUVレジストで半導体の微細化に貢献

先端半導体開発における最先端技術であるEUV(極端紫外線)リソグラフィにより、微細化が飛躍的に進み、トランジスタの集積度が一層向上しています。これにより、例えば生成AIの処理能力が大幅に強化され、リアルタイムでの高度なデータ解析や複雑な演算が可能となり、これまでにない応用範囲が広がっています。また、高速通信技術の進展により、端末からデータセンターへのデータ転送がさらに効率化され、大容量データの迅速な処理が実現しています。さらに、エネルギー効率も著しく向上し、低消費電力で高性能を維持する半導体が次々と開発され、環境負荷の低減に大きく貢献しています。これらの進歩により、未来の社会基盤を支える次世代の技術が加速しています。

微細化のメリット
微細化のメリット
EUVの市場予測
EUVの市場予測
半導体市場予測 2000-2020年:WSTS/2021年以降:IBS
フォトレジストCAGR:JSR推定

世界最高性能の材料ソリューションで、先端半導体の量産化に貢献

JSRはInpria社を買収し、高解像度を可能にするEUVレジストの一つであるMOR(Metal Oxide Resist)技術を獲得しました。MORは、高いEUV吸収率と優れた解像度を有し、将来の微細化を支える次世代の重要な材料です。従来のフォトレジストではメタルを徹底的に排除してきましたが、MORはメタルを積極的に活用するという高い技術的挑戦を成功させ、革新性を備えた製品となっています。2025年頃から、実際の半導体の量産に適用され、高性能・高効率な半導体の大量生産に大きく貢献する見通しです。JSRは、Inpriaの先進技術と自社の量産・品質管理ノウハウを融合させ、先端半導体製造プロセスにおいて競争力のあるソリューションを提供し、業界の進化と技術革新に寄与しています。

JSR Micro, Inc.
Financial Planning AnalystT.T.
解像度の比較
線幅18nmでの解像度の違い

車両の軋み音軽減による
快適なドライブの実現

軋み音対策材「HUSHLLOY®」で自動車内の異音を抑制

各国の地球温暖化や大気汚染への対策に関連する規制強化を背景に、EVの普及が世界的に加速しています。
その一方で、EVの普及に伴い、その静粛性の高さから車内のわずかな異音が気になるという問題が起きています。
JSRグループの軋み音対策材「HUSHLLOY®」はプラスチック嵌合部から発生する軋み音を永続的に低減することができ、安全で快適な運転環境の確保に貢献します。また、これまで手作業で対策してきたグリス塗布や不織布貼付といった作業負担を軽減することができます。

HUSHLLOYを使用することで効果的に軋み音が抑えられる部位
HUSHLLOY®を使用することで効果的に軋み音が抑えられる部位