JSRのトップクラス製品Top Class Product of JSR

私たちJSRの幅広い製品ラインナップのなかで、世界でトップクラスを誇る製品についてご紹介します。

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No.1デジタルソリューション事業［半導体材料］
ArFフォトレジスト

半導体製造工程のなかで、微細な素子形成や配線加工にはフォトリソグラフィー技術が使用されています。その時に用いられるマテリアルがフォトレジストです。シリコンウエハ上に塗布して、レーザー光で露光することにより、露光部と未露光部との現像液への溶解速度差を利用して微細なパターンを形成することが出来ます。高感度汎用品から超高解像度品まで、g線、i線、KrF、ArF、EUVなどの様々な波長の光源に対応した、高性能なフォトレジストを取り揃えています。現在、JSRはこれらの製品においてグローバルシェアトップクラス。世界中の半導体製造には、JSRのフォトレジストが幅広く使用されているのです。

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No.1デジタルソリューション事業［半導体材料］
ArF液浸用トップコート（TCX）

より高精細化・高集積化を目指し、半導体製造のフォトリソグラフィー工程において導入が進んでいるのが液浸露光です。これは、水の高い屈折率という特性を利用した技術で、レンズとシリコンウエハの間を純水で満たし、より微細な加工を実現しようというもの。この工程で使用されるコート材料において、グローバルシェアNo.1の製品が「ArF液浸用トップコート（TCX）」です。フォトレジストと純水の間にトップコート層を加えることで、フォトレジストの水への滲出を抑え、レンズの汚れを防止します。

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No.1デジタルソリューション事業［半導体材料］
めっき用厚膜フォトレジスト（THB）

半導体の後工程では、Chipと基板への接続用のBumpや、再配線(RDL)という工程が存在します。これらは銅などのメッキ金属で形成されます。これらの工程には、メッキ液に耐性を持ったレジストが必要となるため、前工程用とは異なった設計の材料が使われます。JSRでは、「THB」シリーズとして、ネガ型、ポジ型の両方製品ラインナップを揃え、多くのお客様で使用されております。

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No.1デジタルソリューション事業［ディスプレイ材料］
配向膜

液晶の層を上下で挟む材料で、液晶分子を一定方向に並べる役割を担います。非常に薄い膜ですが、液晶パネルの表示性能を左右する重要な素材です。液晶分子の並べ方は進化が著しい分野ではありますが、JSRは常に最新の技術に対応した配向膜の開発を継続しており、長きに亘ってグローバルシェアNo.1をキープしています。