1. HOME
  2. 研究開発
  3. テクニカルレビュー

テクニカルレビュー

JSRテクニカルレビュー No.127（2020/03）

  1. 1.
    黒鉛負極向けバインダーが高温耐久性に及ぼす影響（PDF：865.4 KB）
    Influence of the Binder for Graphite Anode on Cycle Durability of LIB at High Temperature
  2. 2.
    5 nmノード以細に向けた新規シリコンハードマスク材料の開発（PDF：535.3 KB）
    New Silicon Hard Mask Material Development for Sub 5 nm Node
  3. 3.
    低プレチルト角および低温焼成対応新規光垂直配向膜の開発（PDF：1.1 MB）
    Novel Photo-Vertical Alignment Materials for Low Pre-tilt Angle and Low Temperature Cure Process Application
  4. 4.
    BlockmasterTMのタンパク質安定化効果およびそのメカニズム（PDF：1.1 MB）
    Study on Protein Stabilization Effect of BlockmasterTM and Its Mechanism
  5. 5.
    5G高速伝送用絶縁材料　ELPAC HC-Fシリーズ（PDF：1.0 MB）
    Insulation Material for 5G High Speed Transmission ELPAC HC-F series

バックナンバー

ご覧になりたい号をクリックすると詳細が表示されます。

JSRテクニカルレビュー No.126（2019/03）

  1. 1.
    ジエン系ブレンド加硫ゴムの13C NMR分析（PDF：731.2 KB）
    13C NMR Studies of Vulcanized Diene Rubber Blends
  2. 2.
    絡み合い密度制御モデルによるSSカーブシミュレーション（PDF：1.2 MB）
    Coarse Grained Molecular Dynamics Simulation of Entanglement Density Controlled Rubber Model under Uniaxial Elongation
  3. 3.
    自動車ウェザーシール用高接着TPVの開発（PDF：835.5 KB）
    Development of High Bonding JSR EXCELINK® TPV for Automotive Weather Seals
  4. 4.
    Fan-Out Wafer Level Package（FO-WLP）用 UVレーザー剥離型仮止材料の開発（PDF：733.3 KB）
    UV Laser Releasable Temporary Bonding Materials for Fan-Out Wafer Level Package (FO-WLP)
  5. 5.
    Amsphere® A3を用いたプロテインA工程の連続精製検討（PDF：590.1 KB）
    Continuous Capture Step of a Monoclonal Antibody Downstream Process with AmsphereTM A3

JSRテクニカルレビュー No.125（2018/03）

  1. 1.
    光第二高調波発生を用いた液晶配向膜における表面配向特性の解析（PDF：726.6 KB）
    Characterization of Surface Orientation of Liquid Crystal Alignment Layer by Optical Second Harmonic Generation
  2. 2.
    Si負極向けバインダーの開発および電極膨張評価（PDF：598.8 KB）
    Development of binder for Si anode and evaluation of electrode expansion
  3. 3.
    細胞培養上清からの効率的なエクソソーム単離と4℃ 保存エクソソームの安定化（PDF：724.5 KB）
    High recovery method of exosome from cell culture supernatant and the storage stability of exosome at 4 degrees Celsius
  4. 4.
    EUVリソグラフィ用メタルオキサイドフォトレジストの開発（PDF：794.2 KB）
    Metal Oxide Photoresists Development for EUV Lithography
  5. 5.
    バイオ燃料低透過性エラストマーFUELOCK®（PDF：848.5 KB）
    New Elastomer Improved Impermeability for Bio-fuels, FUELOCK®

JSRテクニカルレビュー No.124（2017/03）

  1. 1.
    ウエハースケールマイクロ流路用感光性接着剤（PDF：1.1 MB）
    Photo-Patternable Adhesive for Wafer-Scale Microfluidic devices
  2. 2.
    新規な感光性低CTE材料の開発（PDF：790.5 KB）
    Development of New Photosensitive Low CTE Materials
  3. 3.
    IMS（Injection Molded Solder：溶融はんだインジェクション法）向け 高耐熱性マスクレジストの開発（PDF：1.5 MB）
    Development of liquid photoresist for IMS (Injection Molded Solder) with high thermal stability
  4. 4.
    抗体精製用次世代型プロテインAアフィニティ担体Amsphere® A3（PDF：746.2 KB）
    Next generation Protein A chromatography resin for antibody purification AmsphereTM A3
  5. 5.
    エクソソームの単離濃縮試薬ExoCap（® エクソキャップ）（PDF：2.3 MB）
    ExoCapTM Exosome Isolation and Enrichment Kits

JSRテクニカルレビュー No.123（2016/03）

  1. 1.
    ４級アンモニウムクロリド構造を有するポリヒドロキシウレタンフィルムの作製（PDF：1.0 MB）
    Fabrication of Quaternary Ammonium Chloride-functionalized Poly（hydroxyurethane）Films
  2. 2.
    低吸水性パッシベーション層を適用したアモルファスIGZO薄膜トランジスターの信頼性について（PDF：1.0 MB）
    Reliability of Amorphous IGZO Thin Film Transistor with Low Water-Absorbency Passivation Layer
  3. 3.
    UV-LEDランプを用いた光ファイバ用UV硬化材料の硬化挙動検討（PDF：757.5 KB）
    Investigation of Cure Behavior of UV Curable Coatings for Optical Fiber by UV-LED lamps
  4. 4.
    大規模粗視化MDシミュレーションを用いた次世代高機能ポリマー材料の開発（PDF：785.3 KB）
    Development of High Performance Polymer Materials for the Next Generation using Large Scale Coarse-grained Molecular Dynamics Simulation
  5. 5.
    FFF式３Dプリンター用新フィラメントFABRIAL®（PDF：614.3 KB）
    FABRIALTM, new filaments for FFF-type3D-printer
  6. 6.
    ABS樹脂をベースとした軋み音対策材HUSHLLOY®（PDF：1.1 MB）
    HUSHLLOYTM～ Anti-squeak material based on ABS resin～

JSRテクニカルレビュー No.122（2015/03）

  1. 1.
    ホスゲンフリー法によるポリメチオニンオキシドの合成とたんぱく質および細胞の非接着表面材料への応用（PDF：2.2 MB）
    Phosgene-Free Synthesis of Polymethionine Oxides and their Application to Antifouling Polymer against Proteins and Cells
  2. 2.
    微細配線形成向け電解めっき用ネガ型レジストの開発（PDF：1.8 MB）
    Development of Fine pitch Negative Tone Resist for Electro-Plating
  3. 3.
    trans-１，２，３，４-シクロペンタンテトラカルボン酸２無水物からなる耐熱透明ポリイミドの高機能化（PDF：1.7 MB）
    Development of high performance heat resistant transparent polyimides based on trans-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride
  4. 4.
    中空粒子の光学材料への展開（PDF：2.1 MB）
    Application of Hollow Particles to Optical Materials
  5. 5.
    扁平角缶形リチウムイオンキャパシタ（PDF：3.9 MB）
    Flat Prismatic Can Type Lithium Ion Capacitors

JSRテクニカルレビュー No.121（2014/03）

  1. 1.
    イソチオシアナート構造をもつモノマーの合成と重合およびその反応選択性を利用した高分子合成（PDF：2.1 MB）
    Synthesis and Polymerization of Monomers Carrying Isothiocyanate Moiety and Their Application to Functional Polymers Synthesis Based on Its Reaction Selectivity
  2. 2.
    リチウムイオン電池用水系バインダ（PDF：2.1 MB）
    Water-Based Binder for LIB Application
  3. 3.
    ウェーハスケール・マイクロ流路デバイス製作のための感光性接着剤（PDF：2.2 MB）
    Photo-Patternable and Adhesive Polymer for Wafer-Scale Microfluidic Device Fabrication
  4. 4.
    燃料電池用炭化水素系プロトン伝導膜の構造解析（PDF：799.5 KB）
    Structural Analysis of Hydrocarbon Proton Conductive Membranes for Fuel Cell
  5. 5.
    高耐水性水系粘着剤：AQUATRAN（アクアトラン）®（PDF：1.8 MB）
    High Water Resistant Waterborne Pressure Sensitive Adhesive : AQUATRANTM
  6. 6.
    吸着防止ポリマー：BlockmasterTM（PDF：1.7 MB）
    Anti Bio Fouling Polymer:BlockmasterTM

JSRテクニカルレビュー No.120（2013/03）

  1. 1.
    ポリカルボシランを用いたリチウムイオンバッテリー用の新規ゲル電解質の開発（PDF：786.0 KB）
    Development of Polycarbosilane-Derived Novel Gel Electrolytes for Lithium Ion Batteries
  2. 2.
    16nmハーフピッチ向けEUVL用材料およびプロセス開発（PDF：863.5 KB）
    Development of EUVL Material and Process for 16 nm Half Pitch
  3. 3.
    有機EL向け新規デシカント材料（PDF：877.0 KB）
    New Desiccant Materials for OLED Application
  4. 4.
    水系超耐久防汚塗料原料樹脂：SIFCLEAR®（PDF：729.0 KB）
    Waterborne Highly Durable Stain Resistant Resin for Paint : SIFCLEAR®
  5. 5.
    光成形システムAmolsys®（PDF：1.1 MB）
    Photo Molding System Amolsys®

JSRテクニカルレビュー No.119（2012/03）

  1. 1.
    新規プロテインA担体：抗体結合容量に対する合成ポリマー構造設計の影響（PDF：919.1 KB）
    Novel Protein A Resin: Synthetic Polymer Matrix Design Impact on Antibody Binding Capacity
  2. 2.
    自己組織化材料の半導体微細パターニングへの応用（PDF：1.2 MB）
    Application of Self-Assembly Materials to Semiconductor Patterning
  3. 3.
    化学修飾XPSによる高分子フィルム表面分析（PDF：889.4 KB）
    XPS Analysis of Surface of Polymer Films Utilizing Chemical Modification
  4. 4.
    自動車ウェザーシール用新規TPVの開発（PDF：930.1 KB）
    Development of New Corner Molding JSR EXCELINK TPV for Automotive Weather Seals
  5. 5.
    ポリ乳酸系バイオマス材料：BIOLLOY（PDF：899.5 KB）
    Biomass plastic based on poly lactic acid（PLA）：BIOLLOY

JSRテクニカルレビュー No.118（2011/03）

  1. 1.
    スルホン酸リチウム塩構造を持つ新規なエポキシドとポリエチレングリコール型二官能性エポキシドの共重合によるネットワークポリマーの合成と機能（PDF：812.5 KB）
    Synthesis of Networked Polymers by Novel Epoxide Having a Lithium Sulfonate Salt Structure-Poly（ethylene Glycol）-Based Difunctional Epoxide Copolymerization and their Property
  2. 2.
    ２２nmハーフピッチ以降向けEUVレジスト開発（PDF：876.7 KB）
    Development of EUV Resist for 22nm Half Pitch and beyond
  3. 3.
    ステロイド骨格を有する液晶テレビ用配向膜材料の開発と工業化（PDF：937.7 KB）
    Development and Industrialization of Novel Alignment Films with Steroidal Structure for Liquid Crystal Display Televisions
  4. 4.
    次世代半導体向けCu/Low-k配線製造用CMPスラリー（PDF：981.5 KB）
    CMP Slurry for Cu/Porous Low-k Integration
  5. 5.
    高機能シート・フィルムVALUETECHR（PDF：1.0 MB）
    Functional film and sheet VALUETECH®
  6. 6.
    透明導電性フィルムELARTRシリーズ（PDF：798.1 KB）
    Transparent Conductive Films "ELARTR"Series

JSRテクニカルレビュー No.117（2010/03）

  1. 1.
    ジフェニルカーボナートを使用するα－アミノ酸N－カルボキシ無水物（NCA）のホスゲンフリー合成法（PDF：924.4 KB）
    Phosgene-free Synthesis of α -Amino Acid N-Carboxyanhydride（NCA）by Using Diphenylcarbonate
  2. 2.
    NEXAFSによる垂直配向膜表面界面の構造解析（PDF：1.3 MB）
    Analysis of Surface and Interface of Homeotropic Alignment Films by NEXAFS
  3. 3.
    末端変性S-SBRによるシリカ分散性の向上および転がり抵抗の低減（PDF：1.6 MB）
    Improved Silica Dispersibility with Functionalized S-SBR for Lower Rolling Resistance
  4. 4.
    光ナノインプリント用ビニルエーテルレジストの特性評価（PDF：1.3 MB）
    Characterizations of vinyl ether UV-cure nanoimprint resist
  5. 5.
    反射防止膜用材料 “オプスターR”（PDF：641.5 KB）
    Coatings for Anti-reflection“OPSTARR”
  6. 6.
    マイクロ光造形ACCULAS（PDF：4.0 MB）
    3-D Micro Photo Fabrication System ACCULAS

JSRテクニカルレビュー No.116（2009/03）

  1. 1.
    伝導性・耐久性に優れた燃料電池用の芳香族系高分子電解質膜の開発（PDF：3.1 MB）
    Development of Aromatic Polymer Electrolyte Membrane with High Conductivity and Durability for Fuel Cell
  2. 2.
    開環メタセシス重合により合成した新規脂環族コポリマーの凝集挙動（PDF：2.0 MB）
    Aggregation Behavior of New Cyclic Saturated Copolymers Synthesized via Ring-opening Methathesis Polymerization
  3. 3.
    中空粒子の構造色特性（PDF：3.1 MB）
    Characteristics of a Structural Color of Hollow Particles
  4. 4.
    Sub-40nmパターン向けダブルパターニング材料（PDF：2.0 MB）
    Double Patterning Materials for Sub-40nm Application
  5. 5.
    イメージセンサー用材料（PDF：1.9 MB）
    Materials for CMOS／CCD Image Sensors
  6. 6.
    リチウムイオンキャパシタ（PDF：2.8 MB）
    Lithium-Ion Capacitors

JSRテクニカルレビュー No.115（2008/03）

  1. 1.
    ポリプロピレンと水添ポリスチレン- block- ポリ（スチレン- co-ブタジエン）- block-ポリスチレン との相容性と物性（PDF：284.0 KB）
    Properties of Hydrogenated Polystyrene-blockpoly（ styrene-co-butadiene）-block-polystyrene（SSEBS）and its Miscibility in the Blends with Polypropylene
  2. 2.
    ３２nm世代半導体製造用CMP材料（PDF：739.0 KB）
    Advanced CMP Consumables for 32nm Generation
  3. 3.
    低温焼成アクティブマトリックスLCD用高信頼性配向剤の開発（PDF：208.7 KB）
    High Reliability Alignment Material for Active Matrix LCD Fabricated by Low Temperature Bake Processes
  4. 4.
    バイオセパレーション用磁性粒子“Magnosphere”の開発（PDF：419.7 KB）
    Development of Magnetic Particles for Biomolecule Separation
  5. 5.
    RB架橋発泡靴底（射出成形）（PDF：336.9 KB）
    RB Sponge Sole by Injection Molding
  6. 6.
    ArF液浸用トップコート材料（PDF：360.6 KB）
    Topcoat Material for ArF Immersion

JSRテクニカルレビュー No.114（2007/03）

  1. 1.
    次世代変性溶液重合SBR（PDF：1.5 MB）
    Modified Solution SBR for the Next Generation
  2. 2.
    化学増幅型レジストのEUV，EB，KrF露光における性能の比較（PDF：372.6 KB）
    Performance Comparison of Chemically Amplified Resists under EUV, EB and KrF Exposure
  3. 3.
    液相プロセスによるシリコン膜の形成とトランジスタの作製（PDF：192.1 KB）
    Solution-Processed Silicon Films and Transistors
  4. 4.
    プライマリ材の特性に及ぼす線引き紡糸時のガラス素線温度の影（PDF：682.9 KB）
    The Effect of the Fiber Temperature During Fiber Drawing on the Properties of Primary Coatings
  5. 5.
    リチウムイオン二次電池　高性能負極用バインダー（PDF：426.2 KB）
    High Performance Negative Electrode Binder of Lithium Ion Battery
  6. 6.
    LCD用垂直配向膜（PDF：98.5 KB）
    Alignment Film for VA-LCD

JSRテクニカルレビュー No.113（2006/03）

  1. 1.
    次世代ArF液浸露光用高屈折率液体材料の開発（PDF：6.8 MB）
    Development of Novel High-refractive-index Fluid for the Next Generation ArF Immersion Lithography
  2. 2.
    LCD用感光性スペーサーの開発（PDF：5.7 MB）
    Photosensitive Column Spacer Materials for Liquid Crystal Display Panels
  3. 3.
    光造形用樹脂の靭性改良（PDF：3.7 MB）
    Toughness Improvement of Epoxy Resins for Photofabrication
  4. 4.
    視感印刷光沢に及ぼす拡散反射光の影響（PDF：9.7 MB）
    Influence of Diffused Light on Visual Perception of Print Gloss in Coated Paper
  5. 5.
    光触媒コート材（ダイナセラ）（PDF：4.5 MB）
    Photocatalytic Coating Material(DYNACERA)
  6. 6.
    診断薬用磁性粒子（PDF：2.2 MB）
    Magnetic Beads for Diagnostics Use

JSRテクニカルレビュー No.112（2005/03）

  1. 1.
    デフェクトを低減する新規なCMP材料（PDF：449.6 KB）
    Advanced CMP Consumables with Low Defectivity
  2. 2.
    有機無機ハイブリッドコート材の耐擦傷性の定量的評価（PDF：145.2 KB）
    Quantitative Evaluation of Scratch Resistance of Organic-Inorganic Hybrid Hard Coatings
  3. 3.
    NEXAFSによるポリマー薄膜表面・界面の分析（PDF：395.9 KB）
    Analysis of Surface and Interface of Polymer Films by NEXAFS
  4. 4.
    動的架橋型オレフィン系熱可塑性／エラストマーの構造と力学物性（PDF：170.7 KB）
    Structure and Mechanical Properties of Olefinic Thermoplastic Vulcanizates
  5. 5.
    ARF用フォトレジスト（PDF：138.5 KB）
    Photoresist for ArF Lithographyg
  6. 6.
    PDP用誘電体層ドライフィルム（PDF：252.4 KB）
    Dielectric Layer Dryfilm for PDP

JSRテクニカルレビュー No.111（2004/03）

  1. 1.
    三層レジストプロセス用スピンオングラス材料（PDF：743.6 KB）
    Spin-on-glass (SOG) for Tri-layer Imaging Process
  2. 2.
    自己形成導波路によるシングルモード光ファイバの接続（PDF：994.6 KB）
    Single-mode Optical Fiber Interconnection by using Self-Written Waveguides
  3. 3.
    光配向膜上において安定なプレチルト角を誘起するための新規光配向プロセス（PDF：1.7 MB）
    A General Method to Induce Durable Liquid-Crystal Pretilt Angle on Photo-Alignment Films
  4. 4.
    新規な面感評価法の各種塗工紙への適用について（PDF：1.1 MB）
    Application of a New Evaluation Method of Sheet Appearance to Various Coated Papers
  5. 5.
    半田バンプ用厚膜レジスト（PDF：2.3 MB）
    Thick Layer Resist for Solder Bumping
  6. 6.
    車輌用スチレン系低モジュラス材料（テクノαBS）（PDF：1.8 MB）
    The Innovative Low Modulus Styrenic Materials for Automobile-Techno αBS

JSRテクニカルレビュー No.110（2003/03）

  1. 1.
    LCDカラーフィルター用　高感度化顔料分散カラーレジストの開発（PDF：364.9 KB）
    High Sensitive Pigment-Dispersed Color Resist for LCD Color Filter
  2. 2.
    SSQ樹脂を用いた157nmフォトレジストの開発（PDF：129.2 KB）
    Development of SSQ Based 157nm Photoresist
  3. 3.
    感光性ゾル－ゲル材料のフォトリソグラフィー特性と光導波路への応用（PDF：110.9 KB）
    Photolithographic Properties of Photosensitive Sol-Gel Materials and Their Application to Optical Waveguides
  4. 4.
    ポリプロピレンと水添ポリスチレン－block－ポリブタジエン－block－ポリスチレン(SEBS)との相容性と物性、および相容化剤への応用（PDF：138.8 KB）
    Compatibility and Properties in the Blends of Polypropylene with Hydrogenated Polystyrene-block-polybutadiene-block-polystyrene(SEBS), and Application for Compatibilizer
  5. 5.
    アートン薄膜位相差用フィルム（PDF：71.7 KB）
    Advanced ARTON Thin Film for Retarder
  6. 6.
    高機能オレフィン系熱可塑性エラストマー　－エクセリンク－　その2（PDF：99.0 KB）
    Specialty Olefinic Thermoplastic Elastomer －EXCELINK－ PartⅡ

JSRテクニカルレビュー No.109（2002/03）

  1. 1.
    電子輸送材料に応用可能な溶剤可溶性の主鎖型ポリオキサジアゾール（PDF：706.8 KB）
    Soluble Mainchain Polyoxadiazoles as Electron Transport Materials
  2. 2.
    ポリイミド薄膜の電気特性の膜厚依存性（PDF：728.7 KB）
    Effect of Film Thickness on Electrical Properties of Polyimide Thin Films
  3. 3.
    COMA-アクリルハイブリッド系樹脂を利用したArFレジストの開発（PDF：692.0 KB）
    193 SLR System based on COMA-Acryl hybrid system
  4. 4.
    有機無機複合粒子、中空無機粒子の合成（PDF：752.6 KB）
    Inorganic Compounds as Coatings on Polymer Particles and as Hollow Spheres
  5. 5.
    高機能オレフィン系熱可塑性エラストマー　－エクセリンク－（PDF：683.1 KB）
    Specialty Olefinic Thermoplastic Elastomer －JSR EXCELINK－
  6. 6.
    次世代CMP用高性能パッド（PDF：718.8 KB）
    JSR CMP Pad

JSRテクニカルレビュー No.108（2001/03）

  1. 1.
    動的平均場法を用いた高分子混合系薄膜の相分離構造シミュレーション（PDF：386.8 KB）
    Dynamic density functional study of the phase separated structures of thin polymer blend film
  2. 2.
    パルスレーザー照射によって誘起される偏光と平行方向の液晶配向（PDF：125.1 KB）
    Pulsed Laser-Induced Liquid Crystal Alignment Parallel to the Exposure Polarization
  3. 3.
    新規ArFレジスト用光酸発生剤の設計とその性能（PDF：141.0 KB）
    Design and lithographic performances of 193-specific photoacid generators
  4. 4.
    水素化されたメタセシス開環重合体の開発と工業化（PDF：73.5 KB）
    Development and Commercialization of Hydrogenated Ring-opening Metathesis Polymers
  5. 5.
    ウエハレベルバーンイン時の一括コンタクトを可能にするウエハレベルテスティングPCR（PDF：118.9 KB）
    Wafer Level Testing(WLT)-PCR enables batch processing of all bumps contact during Wafer Level Burn-in.
  6. 6.
    エラストマーライク光造形用樹脂　－デソライトRSCR330－（PDF：43.5 KB）
    Elastomer-like Resin for Stereolithograply －DesoliteRSCR330－
Get Adobe Acrobat Reader

PDF形式のファイルをご覧いただく場合には、Adobe Acrobat Readerが必要です。