JSR株式会社（以下、JSR）および子会社Inpria Corporation（以下、Inpria）は、Entegris, Inc.（以下、Entegris）と、極端紫外線（EUV）リソグラフィー向け材料の進展を目的とした非独占的なクロスライセンス契約を締結しましたのでお知らせします。

本契約に基づき、InpriaとEntegrisはメタルオキサイドレジスト（MOR）に関する特許の相互ライセンスを行うとともに、係争中の特許異議申立（Inter Partes Review：IPR2025-00267）を終了します。また、将来のフォトレジスト材料に関する協業の可能性について検討を進めます。

本取り組みは、レジスト設計、プリカーサー合成、ならびにMOR向け高純度ろ過および供給技術を含む領域を対象とし、高度化するEUVリソグラフィーにおいて安定した量産適用を支えることを目的としています。

JSRおよびInpriaのMOR材料に関する先駆的な知見と、EntegrisのCVD向けプリカーサーおよび材料ハンドリング・MOR向けろ過技術を組み合わせることで、半導体製造における先端材料の適用拡大を図ります。