半導体材料

半導体産業における最先端材料のリーディングカンパニーとして、製造プロセス全体にわたり幅広いソリューションを提供しています。お客様の歩留まり向上と生産性最大化を実現し、次世代デバイスの開発と量産をサポートします。我々は、最先端技術の更新と、愚直な品質・製造管理を両輪に、業界に確かな価値を提供し続けています。これからも持続的な貢献を果たします。

リソグラフィー材料

フォトレジスト・多層材

リソグラフィー工程は、半導体デバイスの微細化と性能を決める中核技術です。JSRはこの領域において、各波長に対応するフォトレジストから有機系、無機系の多層材料などを幅広く取り揃えています。総合的なポートフォリオとデバイスの高性能化と高信頼性を同時に支える材料設計を実現していくことで、最先端ノードから成熟世代まで、顧客のプロセス革新を継続的に支援しています。

フォトレジスト・多層材

リソグラフィー工程は、半導体デバイスの微細化と性能を決める中核技術です。JSRはこの領域において、各波長に対応するフォトレジストから有機系、無機系の多層材料などを幅広く取り揃えています。総合的なポートフォリオとデバイスの高性能化と高信頼性を同時に支える材料設計を実現していくことで、最先端ノードから成熟世代まで、顧客のプロセス革新を継続的に支援しています。

プロセス材料

CMP材料(スラリー・洗浄剤)

高性能LSI製造に必要なCMPスラリー・洗浄剤です。高い平坦化性能と選択性を持ち、デバイス微細化に対応した欠陥低減と高い再現性を実現します

洗浄剤

エッチング後、SAM処理前後の基板表面に残留する微粒子や金属イオン、反応副生成物を効率的に除去する機能性洗浄剤です。

ALD・CVD材料

ALD・CVD用プリカーサー

高度な分子設計・合成技術・品質管理体制を基盤に、原子層レベルでの膜厚制御を可能にし、優れた膜質・均一性・ステップカバレッジを実現します。高純度・低金属汚染・安定供給性を兼ね備え、先端半導体のゲート絶縁膜、バリア膜、配線形成など幅広い用途に対応します

ドーパント

半導体デバイスの電気特性を制御するための高純度ドーパント材料です。高い純度と精密な濃度制御を実現し、均一なドーピングを可能にします。

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