JSR株式会社 （社長：小柴満信） とナノエレクトロニクス技術研究の先端的な研究機関であるimec （社長：Luc Van den Hove） が2015年末にベルギーに設立した合弁会社 「EUV Resist Manufacturing & Qualification Center N.V. （EUV RMQC） 」 のEUVフォトレジスト製造設備がこの度完成しました。 この新施設はクリーンルーム環境下で、４台の量産タンクが設置されており、訓練されたスタッフにより運営されます。

EUV （極端紫外線） リソグラフィ技術は、 「ムーアの法則」 で表される半導体の微細化・集積度向上の進展を 10ナノメートルより微細な世代においても推し進める主要技術の一つとして期待されています。EUV技術は半導体業界において実用化検討が加速しており、量産設備と品質保証体制の確立が必須となっています。 JSRとimec両社の強みを活かして、最先端デバイスを製造する半導体産業に対して EUV リソグラフィ材料技術を提供していきます。