2013年2月24日から米国カリフォルニア州サンノゼで開催されるリソグラフィ技術に関する国際会議「SPIE Advanced Lithography 2013」において、当社四日市研究センター長であり執行役員であります下川努が基調講演を行います。

講演タイトルは「The Evolving Complexity of Patterning Materials」です。10ナノ世代やそれ以降のデバイスに要求される材料技術について、レジストの性能向上のみならず新しいデバイスに合わせて複雑化するパターニング方法とそれに対応する材料技術の動向を説明いたします。

日付：2013年2月25日　（月）
時間：11:20AM（PST）～
セッション名：Advances in Resist Materials and Processing Technology
場所：San Jose Convention Center Hall 3

「SPIE Advanced Lithography」は、世界的に認められた国際会議で、半導体製造における材料、装置、計測、などリソグラフィに関わる幅広い分野での最先端の研究成果が報告されます。