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企業情報

沿革・歴史

1957年
12「合成ゴム製造事業特別措置法」により
日本合成ゴム株式会社設立
1960年
4四日市工場稼働。ブタジエン、SBR、SBラテックス生産販売開始 大阪支店開設
1962年
6名古屋支店開設。ハイスチレンラテックス販売開始
1963年
7ペーパーコーティングラテックス(PCL)販売開始
1964年
10ABS樹脂生産開始。合成樹脂事業へ進出
11NBR販売開始
1965年
2BR販売開始
1968年
4千葉工場完成。ブタジエン生産開始
7ヨーロッパ事務所開設
1969年
3ブチルゴム(IIR)販売開始
4民間会社に移行
1970年
9エチレン・プロピレンゴム(EP)販売開始
1971年
1鹿島工場完成。ブタジエン、SBR生産開始
1972年
12ポリイソプレンゴム(IR)販売開始
1974年
6RB販売開始
1975年
4アクリルエマルジョン販売開始
1979年
4ネガ型フォトレジスト「CIR」販売開始。半導体材料事業へ進出
1981年
4AES樹脂販売開始
7診断薬用ラテックス「イムテックス」販売開始。ライフサイエンス分野へ進出
1982年
5光ファイバーコーティング材の輸入販売開始
11ポジ型フォトレジスト「PFR」販売開始
1984年
5光ファイバーコーティング材「デソライト」、AS樹脂、構造用接着剤「マイティシリーズ」販売開始
1985年
5熱可塑性エラストマー「SIS」販売開始
1988年
3液晶表示材料の配向膜「オプトマーAL」、保護膜「オプトマーSS」販売開始
1989年
4完全週休2日制、フレックスタイム制導入。光造形システム「ソリッドクリエーションシステム」(ソニー株式会社と共同開発)販売開始
5筑波研究所竣工
10鹿島工場内にわが国初の熱可塑性エラストマー TR専用プラント完成
11金属粒子偏在型PCRを用いたIC検査治具販売開始
1990年
2UCB社(ベルギー)と欧州、北米におけるフォトレジストに関する合弁事業契約調印
1991年
10水溶性ポリマー「ダイナフロー」販売開始
1992年
1育児休業制度、介護休暇・休業制度導入
5 水添ポリマー「ダイナロン」と、同ポリマーを用いた熱可塑性エラストマー「ダイナロンアロイ」を開発、販売開始
1993年
1四日市工場内に新研究棟完成。
7UCB-JSRエレクトロニクス社(ベルギー)を100%子会社化し、JSRエレクトロニクス社として新発足。同社の米国子会社もJSRマイクロエレクトロニクス社として子会社化
1994年
2四日市工場の合成樹脂及びNBRについてISO9002登録認定取得
12上海事務所開設。LCDカラーフィルター用の顔料分散レジスト「オプトマーCR」販売開始。タイでのCMB現地生産を行うため、PI社(タイ)に資本参加
1995年
7ソウル事務所開設
9四日市工場の半導体・ディスプレイ・エッジコンピューティング材料製品についてISO9002登録認定取得
11高転写ブロー成形技術「Jブロー」開発
1996年
6フォトレジスト製造子会社、JSRエレクトロニクス九州株式会社(佐賀市)設立。光造形モデル用の高精度・高性能エポキシ系光硬化性樹脂販売開始。
7三菱化学株式会社とABS樹脂事業を集約、合弁会社テクノポリマー株式会社設立
1997年
3JSRマイクロエレクトロニクス社のフォトレジスト工場竣工
9千葉工場内にアートン量産プラント竣工
10JSRエレクトロニクス九州株式会社のフォトレジスト工場竣工。台湾事務所開設
11アジア事務所(シンガポール)開設。千葉工場内にアートン研究加工棟竣工
12「JSR株式会社」に社名変更
1998年
3四日市工場でISO14001登録認証取得
1999年
2LCDパネルの高精細・高コントラスト化が実現できる感光性スペーサーなど、液晶表示材料に新規の高機能商品群を追加
4販売、生産、経理、人事など全社の業務領域情報を一元管理する基幹情報システムを構築し、1日から全面導入
半導体の回路形成面を平坦化するCMP(化学機械研磨)向け高性能研磨スラリー「CMSシリーズ」本格販売開始
JSRマイクロエレクトロニクス社(米国)が日系レジストメーカーでは初めて、エキシマレジスト現地生産を開始
千葉工場がISO14001登録認証取得
5鹿島工場がISO14001登録認証取得
2000年
3タイにマスターバッチの新会社ELASTOMIX(THAILAND)CO.,LTD.を設立
4JSR ARFレジストが、欧米の主要半導体メーカーが参画する半導体プロセス開発コンソーシアムIMEC(ベルギー)の次世代半導体の0.13μmプロセス用レジストとして正式採用
2001年
3光ファイバー用コーティング材新工場竣工
10新規の高機能オレフィン系熱可塑性エラストマー「JSR EXCELINK」を上市
2002年
10子会社の商号、「ジェイエスアールエレクトロニクス九州株式会社」が「ジェイエスアールマイクロ九州株式会社」に、「JSR Microelectronics,Inc.」が「JSR Micro,Inc.」に、「JSR ELECTRONICS N.V.」が「JSR Micro N.V.」に社名を変更
住友化学工業からの乳化重合SBR受託生産開始
電子材料の中国展開強化を目的に、上海事務所に電子材料専任駐在
11ベルギーに半導体材料新工場が完成
12四日市にCMP用研磨パッド新工場が完成
2003年
5本社移転(東京都中央区築地五丁目6番地10号 浜離宮パークサイドプレイス)
12四日市工場内に光学用途「アートンフィルム」生産工場完成
2004年
11単元の株式数を1,000株から100株に変更
4グループ企業の「日合商事株式会社」が「JSRトレーディング株式会社」に社名変更
5米国JSR Micro, Inc.に半導体製造用CMPのアプリケーションラボを開設
6全工場で「ごみゼロ」達成(石油化学業界初)
7グループ企業の「日合エンジニアリング株式会社」が「JSRエンジニアリング株式会社」に社名変更
10韓国の液晶ディスプレイ材料工場(JSR Micro Korea Co., Ltd.)が竣工し、商業生産を開始
12ArF液浸露光で32nmの解像に成功(世界初)
2005年
4有機無機ハイブリッド技術を応用した超長期耐久性光触媒コート材を開発し、「ダイナセラ」の新製品として販売開始
8韓国のディスプレイ材料工場の第2期工事が完了、本格稼動
11SSBR(溶液重合SBR)の生産能力を増強
2006年
1四日市地区研究所の新クリーンルーム棟竣工
2JSRとIBM、ArF液浸技術で線幅30nm以下の露光に成功
3四日市工場で精密加工パイロット設備棟が竣工
7台湾のディスプレイ材料工場(JSR Micro Taiwan Co., Ltd.)が竣工し、商業生産を開始
10次世代メモリー向けArFレジストで、三星からベストサプライヤー賞受賞
2007年
3四日市地区に研修センターを建設
創立50周年を機に企業スローガン『可能にする、化学を。』を制定
第36回日本産業技術大賞・文部科学大臣賞を受賞
「近畿大学分子工学研究所-JSR機能材料リサーチセンター」が完成
5燃料電池用電解質膜の開発で、平成18年度高分子学会賞受賞
6欧州においてダウヨーロッパ社よりSSBR(溶液重合SBR)引取権取得
8リチウムイオンキャパシタ事業の合弁会社「JMエナジー株式会社」を設立。
11JSR Micro Taiwan 第2期工事完了
12四日市地区に精密加工研究棟竣工
JSRとIBM、次世代半導体プロセスについて共同研究契約を締結。
創立50周年記念事業実施
2008年
3育児・介護等で退職した元社員を再雇用する「キャリア再開制度」導入
9シンガポール事務所開設
11リチウムイオンキャパシタの事業会社JMエナジー株式会社の本社山梨工場竣工
2009年
1本社移転(東京都港区東新橋一丁目9番地2号 汐留住友ビル)
3テクノポリマー株式会社を100%子会社化
11JSR、ArFフォトレジスト需要増加に対応する先端リソグラフィー材料新工場稼働
2010年
1JSR、平成21年度第58回日本化学会化学技術賞受賞
3JSR、中国現地法人を設立
4四日市工場に大型天然ガス焚きコージェネレーション(熱併供給発電、熱電併給)設備を導入
7低燃費タイヤ向け高性能合成ゴムSSBR(溶液重合SBR)の四日市での生産能力増強を発表
10財団法人日本経営史研究所 第17回「優秀会社史賞」受賞
日本ブチル㈱川崎工場 ブチルゴム生産能力増強を完了
新規の高靱性ポリ乳酸系バイオ樹脂「BIOLLOY TM」を発売
2011年
1JSRグループ、EPDMの生産能力増強を決定
7韓国での液晶ディスプレイ用材料の研究開発センターが稼動開始
11JSR(上海)、中国北京・深セン営業拠点設立
12四日市工場での溶液重合スチレンブタジエンゴム(SSBR)の生産能力増強を完了
JMエナジー、扁平角缶型リチウムイオンキャパシタ製造プラント及び評価棟・安全試験棟の完成
ラテックス診断薬や化学発光診断薬の中間体の開発・製造・販売を主な目的とする合弁会社「捷和泰(北京)生物科技有限公司」を設立
2012年
2台湾でも液晶ディスプレイ用材料の研究開発センターが稼動開始
メディカル関連事業の加速化のため、JSRライフサイエンス株式会社設立
4インテル コーポレーションから「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」 を受賞
中国での診断薬事業の合弁会社捷和泰(北京)生物科技有限公司本社工場が竣工
9社会的責任投資の国際指標「ダウ・ジョーンズ・サステナビリティ・アジア・パシフィック・インデックス」に初選定 
2013年
2エラストミックスがPT. Prospect Motorとの間で合弁会社のPT. ELASTOMIX INDONESIAを設立
スイスのバイオ医薬品精製プロセス技術企業に戦略投資
4インテル コーポレーションから「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
9韓国の錦湖ポリケム㈱のEP新工場が竣工
2014年
2世界初のマイクロ波成形システム「Amolsys® M-150」を販売開始
Styron Europe GmbHとのSSBR3万トン引取権に関する契約を2014年3月31日を以って解消
4インテル コーポレーションから「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
6シミックと次世代抗体開発の合弁会社「シミックJSRバイオロジックス㈱」を設立
10半導体材料に関する合弁会社「JSR Electronic Materials Korea Co., Ltd.」を韓国に設立
12ディスプレイ材料に関する合弁会社「JSR Micro (Changshu) Co., Ltd.」を中国に設立
2015年
2米国のバイオ医薬品開発製造受託会社KBI Biopharma, Inc.を共同買収
3JMエナジー㈱のリチウムイオンキャパシタ量産工場完成
インテル コーポレーションから「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
慶應義塾と共同で「JSR・慶應義塾大学 医学化学イノベーションセンター(JKiC)」の設立を決定
6㈱ディーメック、国内最大サイズを可能とする光造形3Dプリンターの販売を開始
JSRライフサイエンス㈱、ヒト由来の血清・血漿からエクソソームを単離するのに最適化したExoCap®(エクソキャップ)の販売を開始
10㈱医学生物学研究所を連結子会社化
JSRとJSRライフサイエンス㈱、抗体医薬製造のアフィニティ精製工程に使用するプロテインA担体の次世代製品Amsphere® A3を開発
12JSR、日本アイ・ビー・エム㈱、千住金属工業㈱が共同で、300mmウェハ対応の半導体高密度実装用バンプ形成技術「IMS」(Injection Molded Solder)を開発
2016年
2JSRとimec、EUVリソグラフィ用フォトレジスト製造合弁会社「EUV Resist Manufacturing & Qualification Center N.V.( EUV RMQC)」を設立
3インテル コーポレーションから「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
経済産業省と東京証券取引所により2015年度「なでしこ銘柄」に選定される
平成27年度第64回日本化学会化学技術賞受賞
5宇部興産㈱、三菱レイヨン㈱(現 三菱ケミカル㈱)とABS樹脂事業統合に合意
8全日本空輸㈱・㈱SHCデザインと、3Dプリント義足を共同開発
93Dプリンティング分野で革新的な技術を持つCarbon3D, Inc. (米国)に出資
10㈱エラストミックス、メキシコに新会社設立を決定
2017年
2経済産業省と日本健康会議より「健康経営優良法人2017 ~ホワイト500 ~」 に認定される
3「EUV Resist Manufacturing & Qualification Center N.V.( EUV RMQC) 」 のEUVフォトレジスト製造設備完成
インテル コーポレーションから「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」を受賞
経済産業省と東京証券取引所により2016年度 「なでしこ銘柄」に選定される

四日市工場の竣工式で挨拶する石橋社長

千葉工場の起工式

鹿島工場の竣工式で挨拶する川崎社長

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光ファイバーコーティング材

筑波研究所

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JSRエレクトロニクス九州株式会社

JSR Microelectronics,Inc.

JSR株式会社ロゴ

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JSR Micro NV (ベルギー)

JSR Micro Korea Co., Ltd.

四日市新クリーンルーム棟

精密加工パイロット設備

四日市研修センター

先端リソグラフィー材料新工場

JMエナジー㈱本社山梨工場

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四日市工場で新設したSSBRプラント

扁平角缶型リチウムイオンキャパシタ

捷和泰(北京)生物科技有限公司の竣工式

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