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沿革・歴史


創業期 - 1957~1973年

1957年
12「合成ゴム製造事業特別措置法」により
日本合成ゴム株式会社設立
1960年
4四日市工場稼働。ブタジエン、SBR、SBラテックス生産販売開始 大阪支店開設
1962年
6名古屋支店開設。ハイスチレンラテックス販売開始
1963年
7ペーパーコーティングラテックス(PCL)販売開始
1964年
5第8期決算から株主配当開始
10ABS樹脂生産開始。合成樹脂事業へ進出
11NBR販売開始
1965年
2ロケット固体燃料粘結剤「CTPB」開発
1966年
10道路補強用ラテックス「ローデックス」販売開始
1967年
5BR販売開始
1968年
4千葉工場完成。ブタジエン生産開始
7ヨーロッパ事務所開設
1969年
3IR販売開始
4民間会社に移行
1970年
9EPDM販売開始
1971年
1鹿島工場完成。ブタジエン、SBR生産開始
8東京・大阪両証券取引所市場第1部に指定替上場
1972年
12IR販売開始

四日市工場の竣工式で挨拶する石橋社長

千葉工場の起工式

鹿島工場の竣工式で挨拶する川崎社長

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多角化模索期 - 1974~1990年

1974年
6RB販売開始
1975年
4アクリルエマルジョン販売開始
1978年
2加圧導電ゴム「PCR」開発、販売開始
9アスファルトエマルジョン「スプレイジョン」販売開始
1979年
4ネガ型フォトレジスト「CIR」販売開始。電子材料事業へ進出
1981年
4AES樹脂販売開始
7診断薬用ラテックス「イムテックス」販売開始。メディカル分野へ進出
1982年
5光ファイバーコーティング材の輸入販売開始
11ポジ型フォトレジスト「PFR」、フッ素ゴム「アフラス」販売開始
1984年
5光ファイバーコーティング材「デソライト」、熱可塑性エラストマー「SBS」、AS樹脂、構造用接着剤「マイティシリーズ」販売開始
1985年
5熱可塑性エラストマー「SIS」販売開始
1986年
3ナイロン46樹脂の市場開拓着手
9EPDM/シリコーン複合材「ジェニックス」販売開始
12標準粒子「スタデックス」販売開始
1988年
3液晶表示材料の配向膜「オプトマーAL」、保護膜「オプトマーSS」販売開始
1989年
4完全週休2日制、フレックスタイム制導入。光造形システム「ソリッドクリエーションシステム」(ソニー株式会社と共同開発)販売開始
5筑波研究所竣工
10鹿島工場内にわが国初の熱可塑性エラストマー 「TR」専用プラント完成
11金属粒子偏在型PCRを用いたIC検査治具販売開始
1990年
2UCB社(ベルギー)と欧州、北米におけるフォトレジストに関する合弁事業契約調印
3定年退職者再雇用制度「シニアエンプロイメント制度」導入
4女子総合職制度導入。計画的年休取得制度「クリエイティブ休暇制度」導入。耐熱透明樹脂「ARTON」開発
6架橋中空ポリマー粒子製造法を確立、市場開拓着手

光ファイバーコーティング材

筑波研究所

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多角化推進期 - 1991~2001年

1991年
5ARTON製コンパクトディスクを開発
7超微粒子「スタデックス」が0.1μ mの物差しとして米国標準局の認定を取得
10水溶性ポリマー「ダイナフロー」「ダイナクリン」販売開始
1992年
1育児休業制度、介護休暇・休業制度導入
5 水添ポリマー「ダイナロン」と、同ポリマーを用いた熱可塑性エラストマー「ダイナロンアロイ」を開発、販売開始
1993年
1四日市工場内に新研究棟完成。ラテックス製造にかかわる四塩化炭素使用全廃を宣言
4高濃度マイクロゾル発生装置「ナノマスター」専用の標準粒子分散液「フィルテックス」販売開始
5新タイプPCRを用いた高密度微細プリント配線基盤検査治具販売開始
7UCB-JSRエレクトロニクス社(ベルギー)を100%子会社化し、JSRエレクトロニクス社として新発足。同社の米国子会社もJSRマイクロエレクトロニクス社として子会社化
1994年
2四日市工場の合成樹脂及びNBRについてISO9002登録認定取得
4PLP(製造物責任防止)全社体制確立
12上海事務所開設。LCDカラーフィルター用の顔料分散レジスト「オプトマーCR」販売開始。タイでのCMB現地生産を行うため、PI社(タイ)に資本参加
1995年
7ソウル事務所開設
8GPCT社(タイ)とABS樹脂委託生産契約締結
9四日市工場の電子・光学材料製品についてISO9002登録認定取得
11高転写ブロー成形技術「Jブロー」開発
1996年
2タイでの合成ゴム現地生産会社、BSTエラストマーズ株式会社設立に関して、BST社(タイ)、日本ゼオン株式会社などと合弁事業契約調印
6フォトレジスト製造子会社、JSRエレクトロニクス九州株式会社(佐賀市)設立。光造形モデル用の高精度・高性能エポキシ系光硬化性樹脂販売開始。
7三菱化学株式会社とABS樹脂事業を集約、合弁会社テクノポリマー株式会社設立
1997年
2DSMエンジニアリングプラスチックス社(オランダ)と合弁でDSM・JSRエンプラ株式会社設立
3JSRマイクロエレクトロニクス社のフォトレジスト工場竣工
4中期計画「JSR21」スタート。研究開発部門を対象に裁量労働制導入
9千葉工場内にアートン量産プラント竣工
10JSRエレクトロニクス九州株式会社のフォトレジスト工場竣工。台湾事務所開設
11アジア事務所(シンガポール)開設。千葉工場内にアートン研究加工棟竣工
12「JSR株式会社」に社名変更
1998年
3四日市工場でISO14001登録認証取得
4四日市工場内のABS樹脂、AS樹脂プラントをテクノポリマー株式会社に譲渡
7四日市工場内のABS樹脂プラントに臭気対策用の排気ガスボイラー燃焼設備完成
8BSTエラストマーズ㈱(タイ)の合成ゴムプラント完成〈年産能力SBR6万トン、BR4万トン〉
9光造形モデルの高靭性、高精度化を実現するオキセタン系樹脂を世界で初めて開発
1999年
1遵法経営、透明度の高い経営を推進するための「JSR企業倫理要綱」及び「企業倫理行動規範」を策定
2LCDパネルの高精細・高コントラスト化が実現できる感光性スペーサーなど、液晶表示材料に新規の高機能商品群を追加
4販売、生産、経理、人事など全社の業務領域情報を一元管理する基幹情報システムを構築し、1日から全面導入
半導体の回路形成面を平坦化するCMP(化学機械研磨)向け高性能研磨スラリー「CMSシリーズ」本格販売開始
JSRマイクロエレクトロニクス社(米国)が日系レジストメーカーでは初めて、エキシマレジスト現地生産を開始
千葉工場がISO14001登録認証取得
5鹿島工場がISO14001登録認証取得
11高い保護性能と加工性を実現した紫外線硬化型ディスプレイ用表面保護コート材料を開発。 有機・無機の長所を両立したハイブリッドタイプ
ディスプレイ製品向け反射防止膜用コーティング材料「オプスター」を開発。液状塗布が可能な業界初のフッ素系ポリマーコーティング材料
12デザインルール0.15μm以降のロジックLSI、システムLSIなど、半導体の高密度化、多層化に不可欠な低誘電層間絶縁膜材料「JSR LKD」を開発
2000年
2線幅0.13μmのデバイス生産が可能なKRF二層レジストをIBMと共同開発
3タイにマスターバッチの新会社「ELASTOMIX(THAILAND)CO.,LTD.」を設立
4JSR ARFレジストが、欧米の主要半導体メーカーが参画する半導体プロセス開発コンソーシアムIMEC(ベルギー)の次世代半導体の0.13μmプロセス用レジストとして正式採用
12JSR LKD.International SEMATECHで銅ダマシン構造を達成
2001年
3光ファイバー用コーティング材新工場竣工
6松本社長が会長に、吉田淑則副社長が社長に就任
9ベルギーに半導体材料の新工場着工('03年初頭に商業生産開始予定)、日・米・欧三極生産供給体制を強化
10新規の高機能オレフィン系熱可塑性エラストマー「JSR EXCELINK」を上市
11半導体製造CMP用研磨パッドの事業化を決定。四日市に新工場を着工('02年9月に商業生産開始予定)
12PDP(プラズマディスプレイパネル)用ドライフィルム材料の量産開始

アートン製コンパクトディスク

JSRエレクトロニクス九州株式会社

JSR Microelectronics,Inc.

JSR株式会社ロゴ

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事業構造変革期 - 2002~2010年

2002年
3乳化重合SBRの生産性向上を目的に、住友化学工業㈱と生産受委託で合意('02年10月をめどに四日市工場で受託生産開始予定)
4新中期計画「JSRevolution」('02年~'04年度)スタート
6International SEMATECHが、「JSR LKD」を使用したパターン付きテストウェハーの半導体関連メーカーへの販売を決定
10子会社の商号、「ジェイエスアールエレクトロニクス九州株式会社」が「ジェイエスアールマイクロ九州株式会社」に、「JSR Microelectronics,Inc.」が「JSR Micro,Inc.」に、「JSR ELECTRONICS N.V.」が「JSR Micro N.V.」に社名を変更
住友化学工業からの乳化重合SBR受託生産開始
電子材料の中国展開強化を目的に、上海事務所に電子材料専任駐在
11ベルギーに半導体材料新工場が完成
12四日市にCMP用研磨パッド新工場が完成
米国ハネウェル社との間で、同社の半導体製造用下層反射防止膜の世界販売契約を締結
2003年
5本社移転(東京都中央区築地五丁目6番地10号 浜離宮パークサイドプレイス)
6企業の社会的責任の遂行やコンプライアンスを目的にCSR会議を設置
欧州DOw社へのS-SBRの生産委託をスタート
12四日市工場内に光学用途「アートンフィルム」生産工場完成
2004年
1東京証券取引所「第9回ディスクロージャー表彰」受賞
1単元の株式数を1,000株から100株に変更
2耐熱性透明樹脂ARTONの年産3,000トン体制確立
41年前倒しで目標達成した中期計画「JSRevolution」を2年で終了し、新中期計画「JSRevolutionⅡ」('04~'06年度)をスタート
グループ企業の「日合商事株式会社」が「JSRトレーディング株式会社」に社名変更
5米国JSR Micro, Inc.に半導体製造用CMPのアプリケーションラボを開設
6全工場で「ごみゼロ」達成(石油化学業界初)
7グループ企業の「日合エンジニアリング株式会社」が「JSRエンジニアリング株式会社」に社名変更
10韓国の液晶ディスプレイ材料工場(JSR Micro Korea Co., Ltd.)が竣工し、商業生産を開始
12ArF液浸露光で32nmの解像に成功(世界初)
2005年
4テレビCM「分子のテクノロジー」篇を放映開始
有機無機ハイブリッド技術を応用した超長期耐久性光触媒コート材を開発し、「ダイナセラ」の新製品として販売開始
8韓国のディスプレイ材料工場の第2期工事が完了、本格稼動
11S-SBR(溶液重合SBR)の生産能力を増強
2006年
1四日市地区研究所の新クリーンルーム棟竣工
燃料電池用電解質膜の開発に成功
2JSRとIBM、ArF液浸技術で線幅30nm以下の露光に成功
3DSMグループからディスプレイ用コーティング材料事業を買収工
四日市工場で精密加工パイロット設備棟が竣工
4セイコーエプソンと共同で液体プロセスによる高品質なシリコン膜の形成に成功
10次世代メモリー向けArFレジストで、三星からベストサプライヤー賞受賞
11内部統制体制構築プロジェクト発足
JSR Micro Taiwan第2期工事着工
12四日市工場内に次世代半導体向け微細化対応用生産ラインMEライン完成。
2007年
3四日市地区に研修センターを建設
創立50周年を機に企業スローガン『可能にする、化学を。』を制定
第36回日本産業技術大賞・文部科学大臣賞を受賞
「近畿大学分子工学研究所-JSR機能材料リサーチセンター」が完成
5燃料電池用電解質膜の開発で、平成18年度高分子学会賞受賞
6欧州においてダウヨーロッパ社よりS-SBR(溶液重合SBR)引取権取得
7リチウムイオンキャパシタ事業の合弁会社「JMエナジー株式会社」を設立。
11JSR Micro Taiwan 第2期工事完了
12四日市地区に精密加工研究棟竣工
JSRとIBM、次世代半導体プロセスについて共同研究契約を締結。
バイオ研究用合成高分子ブロッキング剤開発。
創立50周年記念事業実施
2008年
3新しい半導体リソグラフィー材料として「フリージング材」を開発。
育児・介護等で退職した元社員を再雇用する「キャリア再開制度」導入
5JMエナジー株式会社を100%子会社化
9シンガポール事務所開設
11リチウムイオンキャパシタの事業会社JMエナジー株式会社の本社山梨工場竣工
2009年
1本社移転(東京都港区東新橋一丁目9番地2号 汐留住友ビル)
2四日市工場内に燃料電池用電解質膜の量産対応設備完成
3東京証券取引所「第14回ディスクロージャー表彰」受賞
テクノポリマー株式会社を100%子会社化
4吉田社長が会長に、小柴満信専務が社長に就任
5日本ブチル株式会社 川崎工場 ブチルゴム生産能力増強を発表
6JSR、ダブルパターニング向け、自己架橋型高性能ArFフォトレジスト開発
11JSR、ArFフォトレジスト需要増加に対応する先端リソグラフィー材料新工場稼働
2010年
1JSR、平成21年度第58回日本化学会化学技術賞受賞
3JSR、中国現地法人を設立
JSRと近畿大学、研究施設「機能材料リサーチセンター」を拡充
LED関連機能性材料「LUMILON®」を展開
4四日市工場に大型天然ガス焚きコージェネレーション(熱併供給発電、熱電併給)設備を導入
7低燃費タイヤ向け高性能合成ゴムS-SBR(溶液重合SBR)の四日市での生産能力増強を発表
9東京エレクトロン㈱、イビデン㈱と共同で次世代LIC(リチウムイオンキャパシタ)総合技術研究組合を設立
JSR Micro Koreaに開発棟の新設発表
10ディーメック、光造形用透明耐熱樹脂デソライトR SCR780を上市
タッチパネル向け光学用ITOフィルムに自社技術で本格参入
財団法人日本経営史研究所 第17回「優秀会社史賞」受賞
日本ブチル㈱川崎工場 ブチルゴム生産能力増強を完了
新規の高靱性ポリ乳酸系バイオ樹脂「BIOLLOY TM」を発売
11イーテック、ウレタン系接着剤が最高級スポーツカーに採用

JSR Micro NV (ベルギー)

JSR Micro Korea Co., Ltd.

TV コマーシャル

四日市新クリーンルーム棟

精密加工パイロット設備

四日市研修センター

TVCM「荒野に桜」篇

先端リソグラフィー材料新工場

JMエナジー㈱本社山梨工場

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成長への始動 - 2011~2013年

2011年
1JSRグループ、EPDMの生産能力増強を決定
JMエナジー、経済産業省の環境関連補助金に採択
JSR Micro Taiwanの開発棟の新設発表
2JMエナジー、低抵抗リチウムイオンキャパシタ「ULTIMO(アルティモ)」発表
JMエナジー、世界初、角缶型リチウムイオンキャパシタを発表
3タイでの低燃費タイヤ向け高性能合成ゴムS-SBR(溶液重合SBR)の合弁会社設立及び製造プラント の新設を発表
6社員の東日本大震災ボランティア活動を支援
Bangkok Synthetics Co., Ltd.タイでの合弁会社の設立、及び溶液重合スチレンブタジエンゴム(S-SBR)の製造プラントを新設することに合意
遮熱塗料向け材料として、フッ化ビニリデン系ポリマーとアクリルポリマーを分子レベルで相溶化させたフッ素・アクリル複合水系エマルジョン「SIFCLEAR(シフクリア)」を上市
7韓国での液晶ディスプレイ用材料の研究開発センターが稼動開始
温度コントロール性能向上に貢献する潜熱蓄熱材料「CALGRIP(カルグリップ)」を開発
11米Capstone Meteringとクリーンテクノロジー分野において、共同開発契約に合意
JSR(上海)、中国北京・深セン営業拠点設立
生物医薬の分野での分離・精製のエキスパートであるBIA Separations社に対して、2011年11月14日に戦略的投資を実施
12四日市工場での溶液重合スチレンブタジエンゴム(S-SBR)の生産能力増強を完了
JMエナジー、扁平角缶型リチウムイオンキャパシタ製造プラント及び評価棟・安全試験棟の完成
ラテックス診断薬や化学発光診断薬の中間体の開発・製造・販売を主な目的とする合弁会社「捷和泰(北京)生物科技有限公司」を設立
2012年
1JMエナジー、リチウムイオンキャパシタ「ULTIMO」が中部電力株式会社・株式会社明電舎共同開発の「リチウムイオンキャパシタ式短時間停電補償装置」に採用
2台湾でも液晶ディスプレイ用材料の研究開発センターが稼動開始
メディカル関連事業の加速化のため、JSRライフサイエンス株式会社設立
3JSR BST Elastomer社の溶液重合スチレンブタジエンゴム(S-SBR)製造プラントの起工式を開催
4インテル コーポレーションから「サプライヤー・コンテニュアス・クオリティー・インプルーブメント(SCQI)賞」 を受賞
中国での診断薬事業の合弁会社捷和泰(北京)生物科技有限公司本社工場が竣工
9社会的責任投資の国際指標「ダウ・ジョーンズ・サステナビリティ・アジア・パシフィック・インデックス」に初選定 
2013年
1JSRグループ、米Capstone Metering (キャップストーン メータリング) に戦略的投資
JMエナジー、リチウムイオンキャパシタの研究棟増設を決定
2エラストミックスがPT. Prospect Motorとの間で合弁会社のPT. ELASTOMIX INDONESIAを設立
スイスのバイオ医薬品精製プロセス技術企業に戦略投資
3JSRが㈱医学生物学研究所と資本業務提携契約の締結

扁平角缶型リチウムイオンキャパシタ

四日市工場で新設したS-SBRプラント

捷和泰(北京)生物科技有限公司の竣工式

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